作者foolphen (枫儿)
看板NEMS
标题[问题] 薄型光阻.PMMA
时间Sat Jun 30 20:39:08 2012
现在正在使用奈米压印 结构为100nm直径 深度100nm
所使用的是TU2-120的UV型光阻
因为之後要lift off
所以会在基板(ZnO)和压印光阻TU2-120之间在上一层可以使用丙酮或非酸硷溶液洗掉的
lift off 层
之前基板是GaN时都是用SiO2当lift off层 可以用BOE洗掉
但现在因为基板怕酸硷 所以要改这层的材料
目前想到的就是SU8 以及PMMA
听学长说SU8可以稀释到100~500nm 而PMMA目前还在查资料 希望有强者版友可以协助>"<
谢谢!
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 140.112.4.195
1F：推 Jeffch:MicroChem网站上就有资料了 07/04 11:23
2F：→ dsd:SU8 2000.5 07/29 22:15