各位板大大家好 小弟是第一次在这个板上发文 @@ 废话不多说 小弟最近在做 EWOD 相关实验 发现有些人会使用 SU-8 当作 dielectric layer 使用 但文献的 protocol 并未描述得很清楚 有的直接 spin coating 及 bake 後就涂上 hydrophobic layer 但有的说要曝光 显影後 (显影太久不就吃掉了?) 再涂 hydrophobic layer 我不知道哪个是正确的 不知道板上大大有哪位知道答案呢? 是因为曝光後可以增加 hydrophobic layer 与 photoreisit 的附着吗?? 另外有个小问题想顺便问问 我现在再用另外一款的 photoreisit 在做 dielectric 可是都会出现电解的状况.... 不知道是什麽原因 再麻烦各位大大帮助罗 感激不尽 --

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