感谢前面几位的分享 其实涂这麽多层目的是为了lift-off 然而依先前的经验来看 s1818显完剩下结构会呈现上窄下宽的梯形 导致後续沉积金属lift off後，线路两旁留下不必要的side wall 这些side wall若要全部震掉，我的线路也会受损 问过一些技术员，大家都说正光阻就是这样，涂愈厚愈明显 老师一样不能接受@@a 目前想法是增加曝光秒数，但可能要牺牲一点线宽精准度 请问有人用s1818做过较深的垂直结构吗? 我的最小线宽是3um，金属镀层约1um 光阻深宽比若能有0.8~1就很不错了 ※ 引述《Jinuse (积极 努力 )》之铭言： : 完全同意前面的文章 : 跟你分享一些作制程的经验 : 如果可以直接只用厚光阻旋涂一次来取代的话 : 当然是最好的方法 厚度跟转速会有最可靠的关系 : 如果不得已要做叠层的话 : 就要看光阻的特性 : 经过软烤以後因为溶剂跑掉 : 光阻的表面特性已经不是原来那个样子 : 通常会根本涂不上去 或是涂得破破烂烂的 : 之前因为不得已要涂两层AZ P4620 : 方法是旋涂 软烤 HMDS 旋涂 软烤 : 厚度会比较接近理想中的样子 : 我没用过S1818 : 不过你可以试看看我的方法 --

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