※ 引述《SkyLark2001 ( )》之铭言： : 标题: Re: [问题] JSR 151N曝光显影後图形表面变得粗糙 : 时间: Fri Sep 16 07:36:43 2011 : : ※ 引述《jeffdon2 (kkk)》之铭言： : : 最近在尝试使用JSR 151N来定义流道图形并且加热接合的动作，可是曝光显影後 : : 却发现光阻的表面变成雾面，更诡异的是雾面的图形是只有在被乳胶光罩覆盖的区域 : : 出现，其他没被光罩覆盖但是有曝光的区域都没有这情形，不知道有用过JSR 151N : : 的人是否有相同的情形? : -- :

※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc) : ◆ From: 128.95.165.23 : ※ 编辑: SkyLark2001 来自: 128.95.165.23 (09/16 07:37) : 推 jeffdon2:SkyLark2001大可能弄错我的意思了 09/16 09:31 : → jeffdon2:被乳胶光罩覆盖的区域是指被覆盖但是有透光的区域 09/16 09:32 : → jeffdon2:和没被光罩覆盖曝光的区域相比之下是雾面的情况 09/16 09:33 : → SkyLark2001:我大致懂你的意思，但我的疑问是，你的光罩比wafer还 09/16 16:18 : → SkyLark2001:小?不然怎麽会有所谓"没被覆盖但有曝光"的区域 09/16 16:19 : 推 jeffdon2:没错，就是光罩比wafer小 09/16 17:30 : → jeffdon2:结果发现光罩可透光区域下的光阻显影後表面雾化 09/16 17:31 : → jeffdon2:但是其他没被光罩盖到而同样有曝光的光阻却是亮面的状态 09/16 17:32 : 推 quaintness:4.乳胶光罩 光罩可透光区域用OM看应该会有小颗粒? 09/17 02:40 : 推 jeffdon2:这样是表示乳胶光罩的品质不良，还是无法避免? 09/17 10:11 : → jeffdon2:重新做光罩有用吗? 09/17 10:11 : → jeffdon2:因为要做热接合的动作最好一开始两面可以越平贴越好 09/17 10:13 : → jeffdon2:表面太粗糙会导致接合效果不良或加热时间较长导致流道 09/17 10:15 : → jeffdon2:变形 09/17 10:15 q 兄讲的不错，台湾做网片光罩的公司不少，材质差异很大 有些软有些硬，我还遇过有怎样显影都显不成功，之後才发觉那家公司的网片 全新的使用前还要撕下一层保护膜，还有网片是两面都有保护膜的 这些网片拿到显微镜下，垫在白纸上观察，其实都会有小颗粒 但其实影响更大的，是所谓的透光率。 就玻璃光罩而言就有差别，请国外公司制作时，材质可以选quartz或是soda lime quartz透光率最好， soda lime就差了点，但比较便宜。就学术上的制程而言， 品质影响不大，当然尽量选便宜的 网片的差异就会更大了 我工作的无尘室就有建议，使用mylar光罩时曝光时间要明显增加， 比方说用soda lime光罩要60秒曝光的，使用mylar要70s. 因为这类软光罩透光率不佳会影响到黄光结果的 所以原PO可以先增加曝光时间试试 另外还有其他原因可能是软烤之後立刻放进曝光机并进行接触式(真空吸附)的曝光及对准 尤其若是你的substrate散热不佳的话，整个光阻都黏糊糊的，沾到了光罩上 也有这个可能 --

※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc) ◆ From: 24.17.240.42