作者gogobinnnn (布鲁托汪汪)
看板NEMS
标题Re: [问题] 光阻去不完全
时间Mon Jul 11 16:54:32 2011
※ 引述《melvyn (Aeneas)》之铭言：
: 我最近在作黄光显影的pattern
: 做完之後，镀上金，要去光阻却发现，光阻去不完全
: 不晓得是什麽原因，原本是用sputter镀金
: 後来讨论之後，才知道sputter的金镀上去会太稳固
: 改用e-beam镀金後，再做一次去光阻
: 结果用肉眼看，就明显看到基板上的光阻没去完
: 原本以为只是个小实验，却拖了这麽久
: 我现在想到的唯一问题是出在光阻，因为光阻到期时间是2009年
没用过这光阻 但光阻过期後使用起来也没什麽变
: ps.光阻是EPG-512，显影液EPD-1000
: 光阻厚度约1μm
: 预烤150度 45min
: 软烤90度 30min
: 硬烤120度 30min
觉得主要是烤光阻烤太久 一般烤不超过120 虽然加热盘设定与实际有落差
但还是建议不熟悉实际温度时 还是在120内
: 接触式曝光机 70v 300w
: uv照射时间4.8s
: 显影时间 25s
: 镀上10nm的金
镀金一般会在之前镀上一层金属膜 使金附着性较好 如:Cr
--
※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 140.124.125.36