1. 一般HMDS 用旋涂方式涂布的环境用有 fume hood(抽风柜)的 spin coater就可以了， 处理方式与一般光阻同 事实上台湾的制程界中HMDS口耳相传是致癌物，但一般HMDS的MSDS上却并无此一说 http://www.jtbaker.com/msds/englishhtml/h2066.htm 同时在google搜寻 HMDS跟 carcinogenic (致癌的 adj) 有部分连结明确表示HMDS是致癌物但无详细说明， 但有更多其他连结表示HMDS是"疑似"致癌物，尚未证实 不过这种关系自身健康的东西当然小心为上宁可信其有 2. HMDS 这种东西最有效的是用蒸气方式散布在wafer上 (wiki) 这台 http://www.photonicmicrodevices.com/Yes_310_Oven.html 在国外蛮普遍的 (HMDS Oven, 温度在摄氏一百五十度) 用旋涂的话，基本上就是一种涂布方式，所以其实转速时间并不重要。 因为这一台run 一次大约三十分钟，所以有时候要偷懒的话， 我在国外的无尘室另有供应一种primer 叫做P-20，跟HMDS外观很像一样是无色液体 用法就是在转光阻之前先转一次这种P-20 至於要不要烤，则比较众说纷纭，大部分user都不烤，也有一两个user建议 用100度C烤一分钟。 3. HMDS是一种会自行水解的C-Si键结的化合物 作用方式是在Silicon表面改变亲疏水性以增进光阻对於wafer 表面的黏着力 既然会自行水解，加上厚度薄到不能再薄， 所以涂了之後基本上可当作不存在 ※ 引述《areckin (女王万岁)》之铭言： : 我有以下关於使用HMDS的问题: : 1.若在手套箱里使用spin coater涂布HMDS在Si wafer上 : 有无毒性安全上的问题? : 2.可否提供适当的转速、时间、烤乾的温度时间吗? : 3.在後续制程会用O2 RIE去除光阻，那光阻底下的HMDS是否会连同光阻清除掉? : 谢谢! --

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