作者qqappl (apple)
看板NEMS
标题[问题] 请问2um的黄光显影和曝光
时间Thu Apr 21 09:54:42 2011
大家好，想请教一点显影和曝光的问题
我是用光阻EPG 510，显影液EPG 1000，机台的曝光强度2mj/cm^2*s，功率是262.5
接触式单面曝光机
我曝线宽10um的光罩时是曝光时间90秒，显影时间~10秒，
但是这在线宽2um下会过曝(?!看OM下) 但是不确定是不是显影时间过长的关系
除光罩不同，旋涂光阻和软烤的参数都一样
试过曝光时间不变，显影到5秒都还是一样....
但是如果曝光时间不够不是就一切免谈了吗?(无法用显影显久一点补足)
而且我的解析度要到2um....
先谢谢看完的版友:)
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 140.114.12.56
1F：→ xcent:试试软烤100度90秒，曝光30秒，显影30秒左右去调看看 04/24 11:28