作者s75287 (弹珠汽水)
看板NEMS
标题[问题] 蚀刻问题
时间Fri Feb 12 03:10:45 2010
我现在substrate 是 glass
上面有一层ITO
ITO上面有一层 Al
我想问如果我想用湿蚀刻ITO 当我先做好第一层Al的的图案後
我用 HCl+HNO3+H2O去湿蚀刻ITO 这样Al会不会被蚀刻??
因为我想用 lift-off 制程作 Al图案 所以蚀刻ITO时候 会没有光阻
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◆ From: 128.97.11.107
1F：推 kinraku:可以先蚀刻完ITO後才镀Al吗 02/12 22:39
2F：→ s75287:蚀刻完ITO 怎麽样准确的镀Al在 ITO图案上面...要完全依样.. 02/13 12:01
3F：推 kinraku:完全一样的实验没做过 但我是这样做Cu的就是了 02/14 11:03