作者magicmike (magic)
看板NEMS
标题[问题] 请教SU-8达人 光阻去除问题
时间Wed Jul 8 12:54:39 2009
我在CIC晶片上旋涂SU-8 3025 厚度约60-90微米
加热都是用加热板
但是去光阻时我是丙酮+超音波 或 RIE(O2)
但是表面都会有残留 或是 有杂草状的残余光阻
请问有更好的办法来去除乾净吗 谢谢!
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 140.124.32.212
1F：推 quaintness:ICP(O2)/Remover PG 07/08 14:03
2F：→ magicmike:除了楼上说的两种方法还有其他的吗? 07/08 17:31
3F：推 wanttu:是在做lift off 还是纯粹想把光阻全部洗掉?? 07/08 20:07
4F：→ magicmike:我是用SU-8做模 但是还是想要去完全乾净 07/13 12:42
5F：推 wanttu:如果你的微模仁不怕腐蚀的话,食人鱼液之前版上有人提过好用 07/13 14:48
6F：→ LittleHwa:不嫌弃的话,用胶带如何？只要结构有相连我之前有整片撕 07/26 15:23
7F：→ LittleHwa:起来的经验，但是撕起来之後还是要经过清洗程序才会比 07/26 15:23
8F：→ LittleHwa:较乾净。 07/26 15:23