作者Ice98 (又寂寞又美好)
看板NEMS
标题Re: [问题] 微机电制程之可调式光栅
时间Sun Apr 12 21:23:34 2009
※ 引述《lexjiang (Lex)》之铭言：
: 如题
: 不知道有没有人可以提供一些相关资料呢
: 比如说制程、材料等等
: 我在国家仪器中心有看到这个研发成果
: http://www.itrc.org.tw/Research/Product/Nano/grating.php
看图片应该是SOI wafer配合简单的ICP制程做出来的,
节距和深度的规格是一般常见的范围,
就制程上来说应该不难做,
设计上应该会比较花费心力,
驱动电流有点高,
可能是用thermal actuator 来带动grating的位移,
但是就节距的变化量来说, 感觉用comb-drive就可以做到,
里面已经有给关键字啦, 所以paper应该不难找才对.
PS. 如果有错误的地方, 各位高手可别客气ㄚ
--
※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 123.204.98.149
※ 编辑: Ice98 来自: 123.204.98.149 (04/12 21:29)
1F：→ lexjiang:谢谢你 04/14 19:30