作者forceout (forceout)
看板NEMS
标题[问题] 用koh吃silicon,哪种参数111的Roughness最小?
时间Fri Mar 6 22:35:38 2009
paper都有Rq~10nm 数百um^2
但是我只做出来过一次,之後就再也没有成功过了
koh 20% 85 or 80度C
有人用过60度C 在制程完後polish吗?
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 123.195.210.238
1F：→ forceout:wafer会有品质的差异吗?光罩有对大平边,也试过先做一次找 03/06 22:37
2F：→ forceout:晶格面.第二道才真正吃穿 03/06 22:37