作者SophieFluid (洋为中用)
看板NEMS
标题Re: [问题]关於MEMS制程变异度资料
时间Tue Jul 22 10:08:35 2008
Sorry.... 我想再问一下，一般etching线宽的最小值约是？
我想用其值之一半来当作etching linewidth 的误差。
※ 引述《SophieFluid (洋为中用)》之铭言：
: 最近在做一些MEMS sensor性能模拟与分析，需要下列资料：
: (1) silicon (crystal & poly) 线宽以及深度的uncertainty
: (2) silicon (crystal & poly) 的材料特性uncertainty,包含
: Young's modulus, Poisson ratio, density等
: 不知道版友们提否提供相关资讯（数据、paper或database website）
: 感激喽～
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 140.116.81.67
1F：推 vagary: 取决你光罩的线宽，etch後的误差取决你用的材料。 07/23 11:19