作者SophieFluid (洋为中用)
看板NEMS
标题[问题]关於MEMS制程变异度资料
时间Sat Jul 19 15:06:15 2008
最近在做一些MEMS sensor性能模拟与分析，需要下列资料：
(1) silicon (crystal & poly) 线宽以及深度的uncertainty
(2) silicon (crystal & poly) 的材料特性uncertainty,包含
Young's modulus, Poisson ratio, density等
不知道版友们提否提供相关资讯（数据、paper或database website）
感激喽～
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 218.32.7.26
2F：推 Ice98:可以去找他的reference来看 07/19 15:30
3F：→ SophieFluid:那再请问，etching线宽的最低值一般是？um 07/19 22:07