作者nick65415 (期待能翻身的咸鱼)
看板Electronics
标题[请益] 半导体CMP制程overpolish的问题
时间Tue Jan 15 22:10:04 2019
各位先进好:
最近读到半导体制程的CM部分。有提到(铜、钨)CMP制程，当pattern密度比
较高时，会对底下的oxide有比较高的overpolish，请问原因是什麽?
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1F：推 ibizacodi: 好像是金属比较软 01/17 03:55
2F：→ ibizacodi: 所以如果Metal线密度高 会有dishing 01/17 03:57