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碳材料没有广泛用在半导体材料的原因 C的单晶为钻石 1. 合成钻石 : 用来当做基板 还是贵吧(无法像Si wafer那麽普及) CVD钻石薄膜 : 目前实验无法大面积(>4寸)成长钻石薄膜,国内都是小面积且均匀度不好, 又为一高温制程 2.以钻石的dpoing来说 p-type doping diamond 制程技术算成熟, 且已经有一些产品 n-type doping目前没有一个研究团队的制程勘称稳定成熟,顶多发表paper 3. 若以amorphous carbon thin film薄膜材料来做doping 会遇到的问题,University of Camdridge的John Robertson的文章中以说明过 4. 要以Carbon nanotube来做半导体材料 (1)一定要长成single walled CNT, 但里面其实是metallic与semicinducting的混合 (2)长好後,又要将semiconducting SWNT分离出来的技术,仍属於学术研究 ※ 引述《wxes60711 (Anthony)》之铭言: : 想请问一下~ : 目前半导体主要都是以Si作为原料 : 但是同为4A族还有C Ge Sn Pb : 好像早期的二极体和电晶体都是以Ge为原料 : 为何到最後都改成用Si了?? : 而常见的C却根本没听过用在半导体上?? : 是因为C键结的性质吗?? : 谢谢!! --



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