作者yingda1004 (阿达)
看板Electronics
标题[问题] 请问TSMC 90nm DRC ERROR 麻烦了！感谢！
时间Mon Sep 21 13:22:22 2009
由於之前都用CIC的虚拟制程.这是第一次用真的制程所以我完全没有头绪.请各位前辈帮
帮忙.谢谢
我LAY完一个子电路後跑DRC.但它出现以下几个错误...（几乎都是同一类错误.超多）
1. DOD.R.1 {@ DOD is a must. DOD CAD layer must be different from OD's.
CHIP_CHAMFERED NOT INTERACT DOD }
2. CSR.R.1.NWi {@ NWi is not allowed inside the empty area of chip corner.
EMPTY_AREA AND NWi }
3. DUTM.R.1 {@ DUTM is must. The DUTM CAD layer must be different from the
UTM CAD layer.
CHIP_CHAMFERED NOT INTERACT DUUTM }
麻烦了！
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◆ From: 114.38.22.242
1F：推 ArgoNautyoyo:这可以先不管 09/21 22:09
2F：→ yingda1004:感谢A大!! 09/22 08:26