作者rummel (rummel)
看板Electronics
标题Re: [问题] metal-semiconductio junction
时间Thu Jan 11 13:51:22 2007
你可以从参杂浓度下去想会比较容易
假设参杂浓度高,则depletion region的宽度很窄,
进而barrier的宽度也很窄,而电子可以很容易的tunneling
(depletion region widt正比於barreir width)
此时为ohmic contact
反之为Schottky contact
这样就不必再记谁的功函数要大於谁了
另外,掌握Fermi-level与Band Bending的技巧也应该会对你有帮助
只要把图画出来,这样就很容易明白了
※ 引述《armoni (徵说英文的同伴)》之铭言:
: schottky barrier 与 ohmic contact
: 若对於 金属的功函数 > n-type半导体的功函数
: 或 金属的功函数 < p-type1半导体的功函数
: 则为schottky barrier
: 反之若 金属的功函数 > p-type半导体的功函数
: 或 金属的功函数 < n-type半导体的功函数
: 则为 ohmic contact
: 对於大於或小於 跟 p-type或 n-type的对应关系 死背的很辛苦
: 有什麽方式或原理是我疏忽掉了吗
: 可否指点解惑?
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◆ From: 163.22.18.90
※ 编辑: rummel 来自: 163.22.18.90 (01/11 13:53)
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