作者Rigid (阳光下的奇蹟)
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标题Re: [问题]准分子雷射
时间Thu Dec 7 23:04:39 2006
※ 引述《flyskydou (remi)》之铭言：
: 准分子雷射 对於CMOS的浅层接面的制程与原理
: laser anneal(CMOS shallow junction)
: 请解释详细 因为老师很机车XD
某些Excimer laser之频段能轻易地被silicon吸收
又excimer laser的发射时间十分短(nano second)
所以可以仅对CMOS的shallow jusction做加热动作
（仅对表面很薄的一层加高温）
使得implant进去的dopant可以重新建结在silicon的crystal lattice上
而不会因为长时间的高温造成dopant的diffuse
是以可以形成shallow junction
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