作者nick65415 (期待能翻身的咸鱼)
看板ChemEng
标题[制程] CMP制程overpolish的问题
时间Fri Jan 11 22:17:13 2019
各位先进好:
最近读到半导体制程的CM部分。有提到(铜、钨)CMP制程，当pattern密度比较高
时，会对底下的oxide有比较高的overpolish，请问原因是什麽?
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