作者white79125 (小白)
看板ChemEng
标题[材料] PECVD镀膜不成功原因?
时间Thu Oct 2 11:02:22 2014
小弟最近在使用PECVD进行类钻碳DLC的镀膜
使用气体: CH4
Power supply : DC
由於高抽帮浦坏掉
故只能使用初抽帮浦进行抽真空
以往的靠初抽真空度可以到达 16 mtorr左右
现在只能抽到 34 mtorr
而通入CH4後 稳定在83 mtorr
有使用CH4通入至300 mtorr up ，再行抽真空
将气氛洗净
问题在
提供电源後，电浆有出现而试片表面却无镀膜出现
请各位大大帮忙隔空抓药，帮忙想想问题出在哪
拜托各位了
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