作者darkbishop (自由山丘上的春树)
看板ChemEng
标题[问题] XRD
时间Sat Dec 28 15:46:23 2013
最近在做一个实验
蒙脱土高分子复合材料
主要是先将蒙脱土粉末浸泡在水或酒精中使其膨润
之後加入插层剂(四级铵盐)共同强搅拌
原理是希望大分子插层剂与蒙脱土中的K+置换
藉此撑开蒙脱土的层板结构
之後烘乾磨粉
此时要去打一次XRD 与 未插层的MMT(仅含K+)的XRD相互做比较
想请问一下 XRD的Y轴 intensity应有何变化 peak变高或变低?
理想上晶体间的间距变大了 peak会变高还是变低?
小蛇的老师说都没peak或很小才算成功
另外 插层後的蒙托土还要再跟PEO2000混掺
这次不是插层 而是"脱层" 理想上好像是希望PEO能让蒙托土变成amorphous
我的理解是将晶面间距撑大到变成非晶型的样子
如果是这样 peak又该如何变化呢?
另外还想问一下
粉末的size大概在哪个范围内打XRD较适合呢?
再小一点是不是要用TEM了?
因为问题有点长
详细解答者 站内500P 感谢!
急!
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1F：推 xgodtw:楼下你猜marklin的鸡鸡等下会怎麽样?06/08 01:23
2F：推 marklin:========================会爆==========================06/08 01:23
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 140.116.112.101
3F：推 AQUAzero:插层峰的位置会往低角度移动 123.192.58.181 12/29 19:26
4F：→ AQUAzero:脱层 就是没有峰出现 要附上TEM显示clay 123.192.58.181 12/29 19:27
5F：→ AQUAzero:是散乱的 123.192.58.181 12/29 19:27
6F：→ AQUAzero:不过你的PEO2000 应该是水溶性高分子 123.192.58.181 12/29 19:28
7F：→ AQUAzero:去练个冷冻切片吧 不然没办法做TEM试片 123.192.58.181 12/29 19:28