※ 引述《PDADDY (All Eyez On Me)》之铭言： : ※ 引述《cellowu (cellowu)》之铭言： : : (1)放在大气中氧化的wafer : : (2)PECVD 用TEOS 长的oxide : : (3)市售的SiO2 : : (2,3)都是水蓝色的 : : 这个在未吃过HF 前碰到水时都是疏水性,只是他的水珠稍为大颗一点 : : 但一吃过HF会先马上变亲水性,再变疏水性 : 如果指的氧化层厚度都是100nm左右的话 : 2跟3应该都是未抛光的片子 : 不过2我没试过未抛光座氧化层的亲疏水性测试 : 但是1跟3我很确定浸泡HF之前是完全的亲水性 : 因为整片wafer都覆盖满水 而不是水珠 : 至於化学抛光过後 : 3我有做过浸泡HF观察变化 : 不过都是完全疏水性 : 刚刚很无聊跑去翻以前的片子做了一下测试 : 测试片是市售sc 4~8" 还有自己生长的mc 2~3" : 都是p-type light doped : 可不可以请C版友说明一下 : 这是您的经验或是有文献提到吗 : 我想这或许是这个版最重要的地方 : 大家可以提供自己的经验 : 供大家在实验或是遇到问题的时候 : 能有一些参考的部分 我说的oxide 都是成长在si wafer (polish side) 而(3)我是直接拿市售的SiO2 wafer polish side 去碰水大小约2*2cm^2 结果是疏水性 (2)PECVD 用TEOS 长SiO2 後来再用微颢蚀刻(正光阻),我的线宽还满大的 --- SiO2--- ---SiO2 Si Si Si 上图是希望成长的样子，但不知道HF对光阻剂etch rate是多少，怕连光阻都被吃光 再来连SiO2 都没了,因此原本想用亲水or 疏水来check ，但不行因为原本的SiO2 本身就是疏水，必须先吃过HF 的SiO2 才会变成亲水，但如果拿去吃HF 我所要的pattern 也就没了，最後是直接用XPS来check -- --

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