作者cellowu (cellowu)
看板ChemEng
标题Re: [请问]氢氟酸与矽
时间Thu Nov 6 00:39:42 2008
※ 引述《PDADDY (All Eyez On Me)》之铭言:
: ※ 引述《NBC427 (煞科)》之铭言:
: : 请问熟知化学的先进
: : 矽片(完全未经制程 是来料且被抛光的矽)
: : 跟氢氟酸溶液不会起反应
: HF和silicon本来就不会反应
: HF主要是和silicon dioxide反应
: : 在物质安全资料表上 氢氟酸应该比重是小於矽才对
: : (HF:1.4, Si:2.32 g/cm^3)
: : 为何把矽丢入氢氟酸内 矽反而会浮上来呢
: : 这是在学校做过的实验 但不了解为何会这样
: 如果是一般市售的silicon wafer(厚度大约200~300micro)
: 丢进HF溶液理 的确有机会飘浮在水面
: 不过是因为表面张力的关系
: 你去推一下wafer 改变他的平衡 就会沉下去了
: 如果是你丢进去 下沉再浮起来 就是有反应了
: 不过不是silicon 和HF的反应
: 而是silicon表面在空气中自然形成的silicon dioxide和HF反应
: wafer背面和正面都会有小汽泡 因此wafer就会浮起来了
: 一般人可能会觉得抛光後应该就没有氧化层了
: 的确是这样没错 不过放在空气中还是会继续生成氧化层
: 判断silicon wafer表面有没有氧化层的方式
: 一般是用亲疏水性来判断
: 不过如果表面抛光品质够好 就算有50~100nm厚度的氧化层
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一般的的wafer 之氧化层会呈疏水性,要先吃过HF他会先变亲水性(这时还是氧化层)
最後再变回疏水性(无氧化层)
: 依然是呈现疏水性的
: 这和一般常理相违背
: 我们推测应该是表面经过抛光变得过於平整
: 水分子没办法附着在上面的关系
: 有点类似荷叶上的水珠的感觉
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