※ 引述《NBC427 (煞科)》之铭言： : 请问熟知化学的先进 : 矽片(完全未经制程 是来料且被抛光的矽) : 跟氢氟酸溶液不会起反应 HF和silicon本来就不会反应 HF主要是和silicon dioxide反应 : 在物质安全资料表上 氢氟酸应该比重是小於矽才对 : (HF:1.4, Si:2.32 g/cm^3) : 为何把矽丢入氢氟酸内 矽反而会浮上来呢 : 这是在学校做过的实验 但不了解为何会这样 如果是一般市售的silicon wafer(厚度大约200~300micro) 丢进HF溶液理 的确有机会飘浮在水面 不过是因为表面张力的关系 你去推一下wafer 改变他的平衡 就会沉下去了 如果是你丢进去 下沉再浮起来 就是有反应了 不过不是silicon 和HF的反应 而是silicon表面在空气中自然形成的silicon dioxide和HF反应 wafer背面和正面都会有小汽泡 因此wafer就会浮起来了 一般人可能会觉得抛光後应该就没有氧化层了 的确是这样没错 不过放在空气中还是会继续生成氧化层 判断silicon wafer表面有没有氧化层的方式 一般是用亲疏水性来判断 不过如果表面抛光品质够好 就算有50~100nm厚度的氧化层 依然是呈现疏水性的 这和一般常理相违背 我们推测应该是表面经过抛光变得过於平整 水分子没办法附着在上面的关系 有点类似荷叶上的水珠的感觉 -- "It's not about east or west, it's about niggaz and bitches, power and money, riderz and punks!" 这不关於东岸或是西岸,而是关於兄弟和女人,权力和金钱,领导者和卒仔....... by 2pac --

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