作者hodancebear (Joseph)
看板ChemEng
标题[问题] 二氧化矽清除的方法??
时间Tue Sep 23 00:45:35 2008
小弟的专题正在做个非挥发性记忆体元件
必须在晶圆的背面镀上Al当电极
但是晶圆背面所生成的二氧化矽会造成不必要的电容产生
所以我想请问前辈们晶圆上所生成的二氧化矽除了用buffer oxide etchant清除外
还有没有什麽方法可以清除掉?
希望是实验室里能做得到的
感激不尽^^
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 61.230.220.150
1F：推 sandcaster:NaOH 09/23 01:14
2F：推 iam068:45 wt% HF ? 09/23 02:18
3F：推 ChrisPaul03:BOE里面就含有HF 09/23 09:38
4F：→ ChrisPaul03:CMP也可以去除整面SiO2 09/23 09:39
5F：→ ChrisPaul03:但是去了也没用...春风吹又生 09/23 09:39
6F：→ hodancebear:谢谢前辈们提供宝贵意见 09/23 19:58